Новая технология процессоров нарушает "закон Мура"

Ученые из компании ASML придумали способ, как при помощи улучшенного метода фотолитографии, используемого для производства микропроцессоров, выпускать еще более компактные чипы. Новую технологию могут взять на вооружение производители уже к 2015 году.

Современный способ, которому следуют более пятидесяти лет, предполагает непрерывное увеличение числа транзисторов на кристаллах кремниевых пластин. Такой подход оформил в виде теории соучредитель Intel Гордон Мур в 1965 году. Он заявил, что число транзисторов на кристалле микропроцессора будет удваиваться каждые два года. Тем не менее, у "закона Мура" есть предел из-за физических ограничений: количество полупроводников из кремния нельзя увеличивать до бесконечности.

ASML предложила отодвинуть это ограничение при помощи технологии фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Этот метод заключается в том, чтобы "печатать" на кремниевой пластине транзисторы, используя свет с длиной волны около 13 нм. Для сравнения, современные DUV-установки предлагают 248 нм, т.е. почти в 20 раз больше.

Компания заявила, что ей первой удалось создать степпер, который благодаря EUV-излучению способен выпускать 10-нанометровые чипы. Более того, она подчеркнула, что оборудование для массового производства таких микросхем может быть готово к использованию уже через два года.

Тем не менее, пока установка ASML сталкивается с некоторыми ограничениями. EUV-лазер прототипа излучает свет мощностью 55 ватт, тогда как коммерческому степперу необходимо хотя бы 250 ватт.

Источник: ArsTechnica